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等离子纳米抛光是一种全新的金属表面处理工艺——仅在工件表面的分子层与等离子反应，分子中原子一般间距为0.1-0.3纳米，处理深度为0.3-1.5纳米。抛光物的表面粗糙度在1mm范围内，因此等离子纳米抛光处理可以化学活化工件表面，去除表面分子污染层，交叉链接表面在化学物质。等离子也称为物质的第四态，是一种电磁气态放电现象，使气态粒子部分电离，这种被电离的气体包括原子、分子、原子团、离子和电子。等离子就是在高温高压下，抛光剂水溶，但是在高温高压下，电子会脱离原子核而跑出来，原子核就形成了一个带正点的离子，当这些离子达到一定数量的时候可以成为等离子态，等离子态能量很大，当这些等离子和要抛光的物体摩擦时，顷刻间会使物体达到表面光亮的效果。

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铜自动抛光设备操作在正常操作不会出现安全问题，严禁设备在运行时打开设备箱门和电源箱门，设备箱门里面有传动机构、也有电源线、有些线头都是直接锁到挂架上、没有作任何安全防护措施，正常情况下箱门装上是碰不到的、但拆开箱门就有可能触碰到，还有铜自动抛光设备在远行时提作面板上高压指示灯会，闪一闪的，表示有高压电存在，当设备抛光完成后门打开 一点确认此灯有没有熄灭，如果还亮则表示挂具上带电、此时切记不要去取挂具，得等灯熄灭后才可以去取，并通知设备维修人员来检测维修、处理好后再继续生产。

铜自动抛光设备的设备功率一定的情况下、就决定它所抛光产品的表面积一定、换句话说就决定了抛光产品的数量、我们抛光槽就是根据抛光产品数量来设计的、常用普通产品是完全可以满足满功率生产的、特殊产品除外，但也可以设计的抛光槽。八溢自动化设备有限公司是专”生产铜自动抛光设备、和配套设备的厂家、在设备配置和设计上都是有一定的科学依据的、值得信耐的。

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